麻省理工学院的研究人员提出了一种通过将光束组合在diff不同波长。他们使用了所谓的干涉图案，其中不同波长的光线有时互相补充，而在其他地方互相抵消。
他们说这种距离商业用途还有几年的技术可以让芯片制造商以构建像单个分子一样窄的互连和晶体管，或者只有2至3纳米
“如果您制作的晶体管更小，它们通常工作更快，功能更多”，而且每个芯片的制造成本都会下降，Menon说，
像英特尔和AMD这样的芯片制造商一直在构建越来越小的晶体管，以获得更快的性能和更低的功耗。他们通常将芯片设计刻蚀到称为光掩模的玻璃材料上，然后用它将图案复制到硅晶片上。“英特尔所做的就是模式复制。你有一个图案，它是从光掩模直接复制而来的” Menon说。英特尔的方法涉及使用电子，而麻省理工学院的方法涉及通过光源直接创建模式，据说它可以更准确，并提供快速更改设计的灵活性。“如果您使用电子束进行图案化，您将永远必须担心精确度，你的模式可能会稍微失真，这可能会对器件性能产生很大的影响，光子会到你告诉他们去的地方，而电子不会在纳米级，“Menon说。设法生产36纳米宽的生产线，Menon承认，当技术达到原子级时，该技术可能会碰壁。 Menon表示：“问题就出现了 - 你能否让分子变小？当时可能是有限的，”Menon说，“通过一个名为Lumarray的麻省理工学院分拆，这项技术可以在大约五年内商业化。
“这是一条出路，因为我们必须解决一些物质和技术问题，”他说，“关于这项研究的论文将在周五的”科学“杂志上发表。